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电容屏在制作时的工艺技巧

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发表于 3 天前 | 显示全部楼层 |阅读模式
以下是两种电容屏的比较:
& z/ {* L- C; j  G1 K     Single-ITO Glass电容触摸屏" L6 G4 j! d" j+ q
     Double-ITO Glass 电容屏:
. p5 S! L- m- U# U2 S4 H+ ~" E* V6 I  Y& v/ ?2 A7 T
     DITO和SITO对比:
4 T+ h% Z' H3 b; d$ X     DITO的制造技术比较复杂一点,但是它的稳定些、透光度要好,一般适用在相对于比较高端的应用,据了解,苹果采用的就是DITO的工艺技术;SITO的工艺比DITO的要简单,但是它的稳定性能比较差,现在还在持续的改进之中;FILM的透光性相对于比较差,而且它的边框比较厚,美观度也极其的不理想,但是成本优势非常的明显。7 f% y' @: v8 g' j$ j

" t- V6 f* C4 {5 ^% R     DITO技术工艺的主要难度在于:1.工序不仅繁琐而且更加的复杂;
* N! C; g/ v; g( D( Q9 C' e                                                               2.上下两层的ITO光刻对位的精度极高;
/ r) U6 ^" p9 g0 J3 l9 H( @                                                               3.生产的过程之中,玻璃两面都必须要保证高度的清洁
8 t, W: W0 {- \: t( i" I# k6 z! i: R$ ?# Y' R1 ]9 l( n0 j
     DITO对于检测IC上面也是有很高的要求的,但是由于两层的ITO间距比较大(相隔了一层玻璃,而且不是像SITO那样仅仅相隔绝缘层的),层之间的电容比较小,检测的灵敏度也不高,但是对于IC的精度要求比较高。3 c3 c; x1 [& G" c
" r& V8 A. X2 l% O6 H
     SITO的工序精密度和复杂度,都比DITO低一些,因此成本也比较低,但是也有两个弱点:
3 Y' P" ]: x) b! z4 ?! R     1.       两层的ITO先后都光刻在玻璃的同一面上,附着的强度比DITO要低,性能的整体稳定性也比DITO要低
9 i4 K2 Y) r/ v# ]+ y( m  |     2.       如上一段的分析,SITO的层间电容比较大,检测的精度也不如DITO。
1 [# a6 G7 f* X- i( Y/ ~4 J文章来自电容触摸屏:https://www.leehon.com/Jishu-Fuwu/wd/20180108956.html,转载请注明出处!$ c5 F- B! n& F7 q3 c/ v. N# V
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