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In-cell中的电极闸线(Gate Line)可以用光刻银浆的工艺吗??

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发表于 2012-9-4 13:29:43 | 显示全部楼层 |阅读模式
苹果、索尼及三星皆已展开内嵌式(In-cell)触控技术布局。相较其他业者,三星In-cell设计架构更为精简,其将LCD内的触控感测层、驱动层距离拉近至2~3微米,进而隔离Vcom电极闸线(Gate Line)与资料线(Data Line)讯号干扰,并屏除液晶电容杂讯,有助增进触控体验,且有利面板厂快速製造、缩减成本。惟其感测和驱动层距离太近,互电容影响过大将难以测出触控讯号,因而须投资庞大金额开发专用触控IC,大家觉得用BQ6060-10光刻银浆的工艺把线细和线距控制在10um左右,会不会解决讯号干扰这个问题呢???
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 楼主| 发表于 2012-9-8 14:32:00 | 显示全部楼层
求专家正解???
发表于 2012-9-10 21:19:50 | 显示全部楼层
刘总,这个想都不用想,因为第一线还是宽了,第二,后面还有最少两道 的高温CVD温度是三百多度,还要经过浓度高一点的碱脱膜.第三在VIA HOLE时还有RIE的轰击,干刻选择比问题

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发表于 2012-9-10 23:04:39 | 显示全部楼层
楼上高手
发表于 2012-9-11 18:12:42 | 显示全部楼层
不懂······················只能围观混金币··················
发表于 2012-10-20 17:43:39 | 显示全部楼层
感謝分享!!!!
 楼主| 发表于 2012-11-8 14:04:22 | 显示全部楼层
看看吧,等待专家正解。
发表于 2012-11-9 10:11:26 | 显示全部楼层
來打個醬油
发表于 2012-11-9 17:09:58 | 显示全部楼层
有什么问题,问我。我是专家。
发表于 2012-11-25 15:11:36 | 显示全部楼层
看看,了解一下。
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